26亿一台！ASML全新光刻机准备中：Intel锁定 冲击2nm陶瓷

对于中央处理器厂商而言，光和刻机显得至关重要，而ASML也在尽力样式从新技术。据外媒另据称，截至 2022 年第都于，ASML已交货136个EUV种系统，约曝光和7000万个芯片已曝光和。

按照官网的说是，从新型号的EUV光和刻机种系统 NXE：3600D将能降至93%的可用性，这将让其进一步接近DUV光和刻机（95%的可用性）。

数据集显示，NXE：3600D种系统每星期可生产160个芯片 （wph），速率为30mJ/cm，这比 NXE：3400C高18%。二正要开发新 NXE：3800E种系统最初将以30mJ/cm的速率提供可想而知195wph的发电量，并在日均升级后降至220wph。

据介绍，NXE：3600E 将在像反之亦然、重叠和日均总体开展渐进式光和学改进，而在0.33 NA的EUV光和刻机领域，ASML路线图包括到2025年有数推出日均约为220wph的NXE：4000F。

对于0.55 NA的光和刻机，无需更从新不但是其光和刻机种系统。同时还无需在光和掩模、光和刻胶叠层和背面转移工艺等总体齐头并进，才能让从新设备运用成为可能会。

根据ASML 在都于财务决议上披露的数据集，公司的远距离是在2022年交货55台EUV种系统，并到2025年实现（最多）90台运用软件的计划。ASML同时还默许， 90台可能会超过2025年的实际需求，不过他们将其描述为为满足2030年1万亿美元太阳能电池零售业需求所毫无疑问的不小努力。

按照此前的说是，ASML正要开发新设计从新款光和刻机，效益多达4亿美元（约合26亿元下同），双层巴士大、重超200吨。试飞预估2023年月份完工后，2025年首次开工，2026年到2030年精锐部队交货。

这款电脑程式不该指的就是High-NA EXE：5200（0.55NA），Intel是世界性第一个买进的公司。所谓High-NA也就是高数值孔径，2nm在此之后的路由都得依赖性它实现。

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